Elaboration et caractérisation de couche mince NiO:Co

Abstract

Ce travail s’intéresse à l'étude des caractéristiques structurelles, optiques et électriques des couches minces d'oxyde de nickel (NiO) purs, et dopée cobalt (Co) pour les pourcentages (03-06-09-12 )%, où le dépôt des couches minces d'oxyde de nickel a été réalisé sur des substrats de verre sous la température (350 o C) par la technique de spray pneumatique, Les résultats de diffraction des rayons X ont montré que les couches minces préparées ont une structure cristalline cubique, Les pics caractéristiques principaux sont attribués aux plans (111), (200) et (222(. La transmittance des couches minces augmente rapidement lorsque la longueur d'onde augmente dans l’intervalle de (300 - 350) nm, La bande interdite diminue à mesure que la concentration en Co augmente et que les valeurs de la bande interdite se situent entre 3.50 eV et 3.43 eV. L'énergie d'Urbach augmente avec la concentration en Co et la meilleure conductivité a été obtenue pour la couche d’oxyde de nickel dopé à 3 % cobalt. Abstract: this work is concern the study of the structural, optical and electrical characteristics of thin layers of pure nickel oxide (NiO), and doped cobalt (Co) using (03-06-09-12) % concentrations, where the deposition of thin layers is realized on glass substrates under temperature (350 o C) by pneumatic spray technique, X- ray diffraction results have shown that the thin films prepared have a cubic crystalline structure. The main characteristic peaks are assigned to the (111), (200) and (222) planes. The transmittance of Co doped nickel oxide thin films increases rapidly as the wavelength increases in the range of (300 -350) nm. The band gap values decreases when the Co concentration increases and these values are between 3.50 eV and 3.43 eV. Urbach’s energy increases with the concentration of Co, and the perfect film doped conductivity is obtained for the percentages 3%.